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真空・半導体・ハイテク産業における最高水準の清浄度の実現

最高レベルの清浄度が求められる業界、例えば真空技術・半導体製造・航空宇宙産業では、厳格な要件を満たすために洗浄化学とプロセスの安定性が必要となります。
deconex® (デコネックス)HPCシリーズは、アルミニウムや非鉄金属のような腐食しやすい材料に対しても、Grade 1およびGrade 2の表面清浄度確保を目指す水系洗浄ソリューションです。

高清浄度洗浄の重要性

半導体・航空宇宙・精密機器産業で求められる高清浄度洗浄 (High Purity Cleaning)

近年、真空産業・半導体製造・航空宇宙・精密機器業界では、製品の品質向上と高性能化に伴い、求められる洗浄基準が飛躍的に厳格化しています。
このような業界では、洗浄不足が製品の不具合や性能低下の原因となるため、汚染を完全に除去しつつ、素材の特性を損なわない高度な洗浄プロセスが不可欠です。

Borer Chemie(ボーラーケミ)社のHPC (High Purity Cleaning) 洗浄剤は、こうした産業の要求に対応するために開発されました。HPC洗浄は、汚染物質の完全除去を実現し、業界の厳格な基準を満たすことで、製造品質の向上と歩留まりの改善をサポートします。

HPC洗浄のメリット

  • 汚染物質の除去油分・酸化物・微粒子・金属汚染・有機物の完全洗浄
  • 再現性の高いプロセス - すべての洗浄工程で安定した清浄度を確保
  • 素材へのダメージを最小限にアルミニウム、ステンレス、チタンなどの腐食防止技術
  • 業界基準をクリア -  半導体業界のGSA基準、航空宇宙産業のMIL規格などに対応

     

deconex® HPCシリーズ洗浄剤

ボーラーケミ社のdeconex® HPC洗浄剤は、中性・アルカリ・酸性の各種洗浄剤を用途別に展開し、幅広い素材と汚染レベルに対応可能です。

  • HPC 1307 – 中性洗浄剤 (油汚れ・指紋の除去)
  • HPC 1311 – 弱アルカリ洗浄剤 (微粒子・研磨剤残留の除去)
  • HPC 1202 – 酸性洗浄剤 (アルカリ残留物・酸化層の除去)
  • HPC 2602 - 高酸性リワーク洗浄剤 (酸化・ステイン除去)

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